最近这两年,国人对芯片和光刻机投入了较高的关注,对应的企业就是中芯国际和上海微电子,这两家企业分别是芯片制造龙头和国产光刻机龙头,不过中芯国际是上市公司,相对而言财务和管理方面比较透明,但是上海微电子目前还是私营企业,不属于公众公司,因此显得尤为神秘,外界也予以颇多猜测。
最近,国有控制下的芯片制造厂商积塔半导体对外招标采购芯片生产设备,其中就包括光刻机等设备,积塔半导体主要生产的是功率芯片,这一类芯片对于光刻机制程工艺的要求并不高,过去,一般90nm-350nm就可以满足需要。
但是中标结果显示,3台光刻机都被ASML拿下,没有一家国产厂商中标,积塔半导体采购的还是KrF和i-line等系列光源的光刻机,这些设备的制程工艺均被上海微电子所突破,但意外的是,上海微电子落选了。
唯一欣慰的是,在工艺检测设备方面,上海微电子中标了4台产品,算是弥补了部分的尴尬。
那么这也显示出,过去对于制程工艺要求不高的功率半导体,目前也在积极提高制程,根据上海的多个功率半导体厂商采购的光刻机显示,普遍已经可以支持45nm芯片的生产。
反过来,这也要求上海微电子必须加快推出45nm甚至28nm的光刻机设备,应对当前的市场挑战,因为原本要求不高的功率半导体,现在也在加速进行制程升级了。
那么到底上海微电子2021年里经营业绩如何呢?
科技野武士找到了上海电气控股集团最近发布的财务报表,获得了上海微电子详细的2021年经营数据。
不是好消息是,上海微电子在2021年里创下了近年来的收入新高,营业收入达到了8.01亿元,几乎比2020年翻了一倍,公司的总资产也来到33亿元,通过*的不断增资,净资产也上升到了11.24亿元。当然更振奋人心的是,上海微电子的亏损也在缩减,2021年的亏损额只有3382万元,2020年的亏损却达到了1.06亿元。
2021年上海微电子公开的专利达到103个,2020年公开的专利是122个,今年前4个月,公开的专利33个,从研发的专利数量来看,公司的研发进度相对比较平稳,似乎在专利投入方面并没有呈现大幅的增长。
如果对比上海微电子和ASML,可能不忍直视,因为ASML在2021年的收入是220亿美元,合计人民币超过1500亿元,上海微电子只能算是一个零头。对比二者的净利润,上海微电子更是没法比,ASML去年全年58.83亿美元,要是对比专利,ASML的光刻机专利数量是5000个,但上海微电子的光刻机专利数量不足2000个。
不过对于这样的结果,大众也不应该悲观,因为工艺量测设备,全球的市场份额也不过五六百亿元,目前美国企业和日本企业占据全球最大份额,原因是量测设备涉及电学、光学和光声技术等多个技术领域,难度非常高,国内企业获得突破的企业也相对不多,因此上海微电子能够获得订单,也同样值得赞许。
但是从另一个角度来思考,上海微电子对比ASML,产品线过于分散,不能够集中,也是个问题,在各个设备方面似乎都有涉足,但都不精通,那难以拿出拳头产品。这极大地分散了上海微电子的研发投入。反观ASML,只专精于光刻机,检测设备、退火设备等并不涉足。
再者从另一个角度而言,不是单单依靠上海微电子自身加大研发,就能够一蹴而就生产出光刻机,因为光刻机产业链的上游有许多的科技环节,一个整机企业根本无法兼顾,它需要整个产业链上下游共同协作,努力进行全面突破。
尤其是包括双工作台系统、光源系统和光学镜头系统,当然最核心的还有软件方面。所以不能单单看一个上海微电子,因为从中国整个的光刻机相关的专利数量来看,这两年国内申请的光刻机专利数量在呈几何倍数增长,所以突破是指日可待的。
当然,从这次积塔半导体的招标,我们可以欣喜地发现,除了光刻机以外,大部分中标的都是国产设备,包括刻蚀设备、镀膜设备、热处理设备等都在国产化的基础上实现了满足,让人欣慰。